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Electron beam lithography: resolution limits and applications

Applied Surface Science · 2000 · Vol. 164(1-4) · pp. 111–117

Christophe Vieu✉(Centre National de la Recherche Scientifique)F. Carcenac(Centre National de la Recherche Scientifique)A. Pépin(Centre National de la Recherche Scientifique)Y. Chen(Laboratoire d'Étude des Microstructures)M. Mejias(Laboratoire d'Étude des Microstructures)A. Lebib(Laboratoire d'Étude des Microstructures)L. Manin-Ferlazzo(Centre National de la Recherche Scientifique)Laurent Couraud(Centre National de la Recherche Scientifique)H. Launois(Centre National de la Recherche Scientifique)

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Advancements in Photolithography Techniques Advanced Electron Microscopy Techniques and Applications Semiconductor materials and devicesResistElectron-beam lithographyFabricationMaterials scienceLithographyNext-generation lithographyReactive-ion etchingOptoelectronicsResolution (logic)Nanolithography

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